据媒体报道，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备——超分辨光刻装备项目今天在成都通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨力紫外超分辨光刻装备。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片。光刻机作为半导体芯片的“母机”，在半导体制造行业的作用不亚于高精度机床在机械加工领域。它对于我国半导体产业而言，是一个重大的突破。但是，除了民用半导体领域，高精度光刻机在军事领域，还有哪些用处呢？

    据悉，国产高精度光刻机研制成功后，已经先后成功制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平。

    众所周知，电子行业是一个目前已经实现高度军民融合的高科技行业，绝大多数元器件和相关技术，都能实现军民两用，因此高精度光刻机制造出的高精度半导体元器件，不光可以民用，在军用雷达、电子设备、高精度传感器上，也一样大有用武之地。

      上面提到的太赫兹雷达，就是目前军用领域研究投入很大的新概念雷达，如果用太赫兹体制来做成像雷达，更能得到比X波段火控雷达更精细的图像。同时，与波长比太赫兹波更短的红外光学探测波段相比，太赫兹波也有优势，它能穿透红外光学探测穿透不了的烟雾、沙尘等遮蔽，能够在敌军武器装备释放干扰弹、烟雾的情况下，也准确地侦测到目标。此外，太赫兹雷达还具有载频高、合成孔径长度小、成像速度快的优点，可以实现对运动目标的视频成像和跟踪。将其用于高速低空侦察系统或武器，是一个可能的应用方向。而太赫兹雷达的核心，无疑是天线组件，它就是一种高精度的半导体元器件，可以用高精度光刻机来制备。用高精度光刻机做出来的天线组件器件，性能好精度高，能使得太赫兹雷达充分发挥其能力。

     而对于航天技术领域，比如火箭、导弹等，需要使用高精度的电子元器件来制造弹载或箭载电子设备，比如导航系统、制导系统等，例如导弹要打得更远，精度更高，就要求电子元器件不但要尺寸更小，好让导弹重量大幅减轻，还要求元器件精度更高，使得导航和制导更为精密、误差更小。而高精度光刻机所加工制备出的电子元器件，就能满足这一要求，让咱们的导弹做的更小、打得更远更准。此前美国在同等性能的导弹方面，明明射程与咱们一样，但美国导弹就可以做得更小，精度还比咱们更高，这其中，就有高精度个光刻机加工半导体的优势和功劳。美国在雷达方面一直占据世界位置，其掌握的光刻加工技术，也是其中重要的原因。

     在战斗机领域，我们未来的机载有源相控阵雷达，也可以采用高精度光刻机来制作天线和元器件，可以用更先进的制程来制造元器件，比方说以前的雷达半导体元器件，用150纳米、90纳米制程工艺来制造，未来就可以用22纳米、甚至10纳米制程工艺来制造。我们知道，制程越小，半导体元器件集成度就越高，在同一块尺寸的电路板上，器件运算性能成倍提升、功耗大幅下降。先进光刻机的研制成功，将有助于我国用更好的半导体器件，研制出更大规模的集成电路器件，制造运算速度更快、性能更好的机载雷达，让战斗机的“鹰眼”更锐利！